光刻機(jī)

光刻機(jī)-產(chǎn)業(yè)百科

光刻機(jī)作為一種高精度儀器，主要用于半導(dǎo)體工業(yè)中的芯片制造。近年來(lái)，隨著5G、人工智能、物聯(lián)網(wǎng)等技術(shù)的快速發(fā)展，5G、人工智能、物聯(lián)網(wǎng)等技術(shù)的快速發(fā)展，為光刻機(jī)行業(yè)帶來(lái)了前所未有的發(fā)展機(jī)遇。在技術(shù)層面，極紫外光刻（EUV）等先進(jìn)技術(shù)的突破顯著提升了芯片制造的精度和效率，使得晶體管特征尺寸得以不斷微縮，推動(dòng)著整個(gè)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)向前發(fā)展。在政策層面，中國(guó)政府持續(xù)加大對(duì)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的支持力度，為國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的發(fā)展提供了有力保障。數(shù)據(jù)顯示，2024年中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)市場(chǎng)規(guī)模約為178.75億元。未來(lái)，隨著新能源汽車、人工智能、物聯(lián)網(wǎng)等新興產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，芯片需求持續(xù)增長(zhǎng)，將進(jìn)一步推動(dòng)光刻機(jī)市場(chǎng)的繁榮。